显微与失效分析

ABSEM 200 双束系统

氩离子束场发射扫描电镜

将氩离子束处理与场发射扫描电镜平台结合,在样品抛光后直接进行扫描成像,连接制样与观察流程。

ABSEM 200离子束制样场发射电镜

功能特点

  • 氩离子束以可调节掠射角作用于样品表面。
  • 通过样品台摆动或旋转,改善离子束制样过程。
  • 配备挡板层切模块,根据观察需求开展分层处理。
  • 抛光后无需样品转移,可在系统内继续进行扫描成像。

产品信息

氩离子束场发射扫描电镜产品信息
系统型号ABSEM 200
平台组成氩离子束与场发射扫描电镜
制样功能离子束抛光、挡板层切
观察流程制样后原位扫描成像

设备外观与配置以具体型号及最终技术方案为准。第三方品牌与商标归其各自权利人所有。

应用与选型

适用于需要结合截面制样与显微观察的微观结构分析。制样参数与成像条件需围绕材料特性和目标结构确定。

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